Processo de PVD de cozinha e banho meiao revelado

A tecnologia de PVD (deposição de vapor físico) é uma tecnologia avançada de tratamento de superfície realizada sob condições de vácuo, em que a superfície de uma fonte de material sólido ou líquido é fisicamente vaporizado em átomos gasosos, moléculas ou parcialmente ionizados em íons, que são depositados na superfície da superfície da o substrato para formar um filme fino com uma função especial. A tecnologia é dividida em três categorias principais: revestimento de evaporação a vácuo, revestimento de pulverização a vácuo e revestimento de íons a vácuo, que incorporam uma variedade de métodos de processo, como evaporação, pulverização e arco elétrico.

No processo de PVD, a primeira etapa é a gaseificação do material de revestimento, onde átomos, moléculas ou íons gasosos são produzidos aquecendo a fonte do material para a temperatura de evaporação, fazendo com que ele gaseifique, sublimado ou sputter. Esses gases migram e depositam na superfície do substrato em um ambiente de vácuo para formar um filme fino. Todo o processo é simples, não poluente e ecológico, e a formação do filme é uniforme e densa, com forte vínculo com o substrato.

A tecnologia de PVD é amplamente utilizada em aeroespacial, eletrônica, óptica, máquinas, construção e outros campos, pode estar preparada para resistente a desgaste, resistente à corrosão, decorativa, eletricamente condutiva, isolante, fotocondutiva, piezoelétrica, magnética, lubrificação, lubrificação, supercondutividade e outras características, do filme. Com o desenvolvimento de indústrias de alta tecnologia e emergentes, a tecnologia de PVD é constantemente inovadora e muitas novas tecnologias avançadas, como revestimento de íons multi-artes e tecnologia compatível com a pulverização de magnetron, alvo de arco longo retangular grande e alvo de pulverização, etc. promover o desenvolvimento da tecnologia.

Nossa fábrica usa o primeiro tipo de revestimento de evaporação a vácuo, e todo o processo desse revestimento será descrito em detalhes abaixo.

O revestimento de evaporação a vácuo é um dos métodos mais antigos e mais usados na tecnologia de PVD. Nesse processo, o alvo de revestimento é primeiro aquecido à temperatura de evaporação, fazendo com que ele vaporize e deixe a superfície líquida ou sólida. Posteriormente, essas substâncias gasosas migrarão para a superfície do substrato no vácuo e, eventualmente, depositarão para formar um filme fino.

Para alcançar esse processo, uma fonte de evaporação é usada para aquecer o material de revestimento para a temperatura de evaporação. Existem várias opções para fontes de evaporação, incluindo aquecimento de resistência, vigas de elétrons, vigas a laser e outras. Destes, fontes de evaporação de resistência e fontes de evaporação do feixe de elétrons são as mais comuns. Além das fontes de evaporação convencionais, também existem algumas fontes de evaporação de fins especiais, como aquecimento de indução de alta frequência, aquecimento de arco, aquecimento radiante e assim por diante.

O fluxo básico do processo de evaporação a vácuo é o seguinte:

1. Tratamento pré-placado: incluindo limpeza e pré-tratamento. As etapas de limpeza incluem limpeza de detergentes, limpeza de solventes químicos, limpeza ultrassônica e limpeza de bombardeios de íons, etc., enquanto o pré-tratamento inclui revestimento deestático e iniciador.

2. Carregamento do forno: Esta etapa inclui a limpeza da câmara de vácuo, a limpeza dos cabides de peças, além de instalar e depurar a fonte de evaporação e definir a placa de casaco de laboratório de peças banhadas.

3. Bombeamento de vácuo: primeiro, realize bombeamento áspero até 6.6Pa, depois inicie o estágio frontal da bomba de difusão para manter a bomba de vácuo e aqueça a bomba de difusão. Após pré -aquecimento suficiente, abra a válvula alta e use a bomba de difusão para bombear o vácuo para um vácuo de 0,006Pa.

4. Baking: As peças revestidas são aquecidas na temperatura desejada.

5. Bombardeio de íons: O bombardeio de íons é realizado em um vácuo de cerca de 10 pA a 0,1 pA, usando alta tensão negativa de até 200 V a 1 kV, e o bombardeio de íons é realizado por 5 minutos a 30 minutos.

6. Pré-fusão: Ajuste a corrente para pré-derreter o material de revestimento e degas por 1 minuto a 2 minutos.

7. Deposição de evaporação: Ajuste a corrente de evaporação, conforme necessário até que o final do tempo de deposição desejado seja atingido.

8. Resfriamento: resfrie as peças revestidas a uma certa temperatura na câmara de vácuo.

9. Remoção: Após a remoção das peças revestidas, feche a câmara de vácuo, bombeie o vácuo para 0,1Pa e resfrie a bomba de difusão na temperatura permitida e finalmente feche a bomba de manutenção e a água de resfriamento.

10. Pós-tratamento: Realize trabalhos pós-tratamento, como a aplicação da camada superior.